1. HOME
  2. ナノテクノロジー用ラジカルモニタリングプローブ

ナノテクノロジー用ラジカルモニタリングプローブ

  • 未来社会創造機構

教授 堀 勝[ほり まさる]

http://www.nuee.nagoya-u.ac.jp/labs/horilab/

シーズの概要

【目的】
超先端微細加工技術および機能性薄膜形成技術を実現するために,プラズマ中の活性種を極めて簡易な方法で計測する技術.ナノテクノロジーに必要なプロセスをリアルタイムでモニタリングすることが可能.この方法により,ULSI,マイクロマシン,バイオ材料の超微細加工および多結晶薄膜,ダイヤモンド,カーボンナノチューブ、カーボンウォールの低温形成プロセスの高精度化が可能.

【概要】
ナノプロセスにおける原子,分子,ラジカルを超コンパクトなシステムを用いてリアルタイムに計測する技術.下記のプロセスへの応用を展開している.
酸化シリコン薄膜の超微細加工技術の開発
有機薄膜の超微細加工技術の開発
多結晶シリコン薄膜の低温形成の開発
カーボンナノチューブの低温形成の開発
新規カーボンナノ構造体カーボンナノウォールの開発

この研究の新規性・独創性

ナノテクノロジーを実現する上で必要なプロセス装置にフレキシブルに装着可能なラジカルモニタリングツールであり,同様なツールは,世界的にも皆無.

産学連携を目指した応用研究

【地域経済への波及効果】
本地域におけるセラミックや半導体材料を中心とした産業において,その開発の省資源,省エネルギー,高効率化を有するプロセス技術を提供できる.反応容器中の粒子をビジュアル化することが可能であるため,プロセス装置の信頼性の向上,開発の省資源,省エネルギー化が実現.

【実用化の見通し】
材料・デバイス・計測メーカーとの共同研究が可能.3年で実用化を目指す.

キーワード

超微細加工、ナノテクノロジー、光計測、材料構造制御

主な特許

  • ラジカルの計測技術