名古屋大学 研究力強化促進事業

「革新的マテリアル・デバイスを活用したエネルギーハーベスティング研究ユニット」の共同研究者である、水口 将輝 教授(未来材料・システム研究所/国際高等研究機構)らの研究成果が、合金・材料科学分野の学術誌「Journal of Alloys and Compounds」に掲載されました。

【本研究のポイント】※プレスリリースより
・次世代不揮発性メモリ（MRAM）の記録層として期待されるL1₀-FePd薄膜において、二段階焼成法により、膜厚5nmの極薄領域で「原子の整列（規則化）」と「原子レベルの平坦性」を両立させ、材料が劣化する「膜の崩壊（Dewetting）」を封じ込めました。
・1回目の焼成温度のわずか50℃の違いが膜の運命を決め、その後600℃で焼き直しても覆らないことを発見しました。その引き金が初期に生じる微小な穴であることを、世界初のL1₀-FePdの表面自由エネルギー計算と原子レベルの観察により突き止めました。
・崩壊の制御により、5nm厚で規則度0.99、垂直磁気異方性1.33 MJ/m³という高い値を達成し、次世代MRAMが求める極薄記録層の実現が加速します。